有研新材料股份有限公司(以下簡稱“有研新材”),原(yuan)名有研半導體材料股份有限公司,是由北京有色(se)金屬研究總院獨(du)家發(fa)起,以募集方式設(she)立(li)的股份有限公司,於1999年3月成立(li)並在上海(hai)證券(quan)交(jiao)易(yi)所掛(gua)牌上市(shi)。有研新材注冊資本84655.3332萬元,注冊地址(zhi)北京市(shi)海(hai)澱(dian)區(qu)北三(san)環(huan)中路43號。

    高純金屬濺射靶材

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    廣(guang)泛應用(yong)於半導體、平麵顯示、太陽能電池、光學元器件、工(gong)具改性等領(ling)域。其中半導體集成電路對於靶材的要求最高,對材料的純度、缺陷率、組織性能以及一(yi)致性、穩定性等要求極其嚴(yan)苛(ke)。集成電路製造(zao)所需主要產品有高純Cu及Cu合金、Al及Al合金、Ta、Ti、Co、W、WTi、Au、Ag、NiPt、NiV、AlSc等靶材;Ti Coil、Ta Coil和Cu Coil等靶材配套環(huan)件;CuP、Co等陽極等。有研億金是全球屈(qu)指可數(shu)具備從(cong)高純原(yuan)材料提(ti)純到全譜係靶材產品垂(chui)直一(yi)體化研發(fa)、生產能力的產業化平台,研製生產的8 -12英寸多品類(lei)超高純金屬及合金靶材各項(xiang)性能指標均已(yi)達(da)到國際(ji)領(ling)先標準。

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